12月18日消息，尽管在EUV光刻机领域已失去竞争优势，但日本仍是全球第二大光刻机供应商。近年来，日本企业也在全力研发可替代EUV的光刻技术方案，他们选定了NIL纳米压印这一技术路线。
此前日本佳能、尼康等企业曾展示过类似技术，如今日本DNP公司（大日本印刷株式会社）也对外宣布，成功开发出10nm级别的NIL纳米压印技术。这项技术能够直接在基板上印制电路图，可应用于1.4nm工艺逻辑芯片的曝光环节。
在具体技术层面，DNP的10纳米纳米压印技术运用了SADP自对准双重图案技术，通过一次曝光配合两次图案处理，能够生产出精度翻倍的芯片，足以满足先进工艺逻辑芯片的需求，同时在功耗方面优势突出，据DNP公司介绍，该技术的能耗仅为当前主流工艺的十分之一左右。
这家公司在NIL技术领域的研发历程已超20年，当前这项技术已具备部分替代EUV光刻的能力，能为芯片制造商提供高精度工艺生产的另一选项，目前正与硬件供应商携手推进技术评估工作。
DNP公司计划在完成客户验证、搭建好量产与供应体系后，于2027年启动量产出货。
